傳統原理光刻機示意圖
幾個月前大家可能都被一則中科院光電所成功研製出22nm級別光刻機的消息刷屏了。由於光刻機原理的複雜性，大多數人對這件事的觀察只停留在22nm上面，對這一項新的技術原理突破還沒有意識到重要性。那我們就來看一看這項技術到底有多重要吧！
廣波衍射的極限就是傳統光刻機的極限
最新原理解釋圖
該長圖裡面已經說的很清楚了，由於廣波的衍射效應，最新的光刻機最多到達3nm左右就會到達瓶頸，難以再突破。而用等離子體光刻，嚴格意義上來說不再叫光刻機了，因為它跟光已經沒啥關係了。這項技術突破以後，將能夠製造1nm,甚至更低的距離。雖然目前還只是22nm階段，但是以後將會實現跨越式發展，而且還是不久的將來，預計3年左右。
這次的突破可以形象的比作“最強的弓箭和早期射程火力都還不夠的槍械”。這樣一來，再芯片代工這個領域，一向自持的臺積電還能驕傲多久，臺灣的謎一樣的驕傲還能騙自己多久。
我們之前曾經說過，中國科技企業一路走來很不容易，但由於他們永不放棄，頑強拼搏的精神讓中國科技一次又一次打破封鎖。如今，中國正值產業轉型升級，邁向高端製造的路上，前方路途漫漫，我輩當且歌且行！加油，中國科技人！
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