華慧高芯知識庫|UV膜與藍膜的特性分析

一、UV膜和藍膜的重要性

一般研磨之前磷化銦的厚度在 360 μm左右,研磨之後,Wafer的厚度會減小到120 μm的程度,具體將視客戶要求和芯片的應用環境情況而定,Wafer在劃片之前,會將Wafer的背面粘一層膜,該層膜的作用是將芯片粘在膜上,可以保持晶粒在切割過程中的完整,減少切割過程中所產生的崩碎,確保晶粒在正常傳送過程中不會有位移和掉落的情況。

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二、UV膜和藍膜的特性

1.芯片劃切過程中都用到了一種用於固定Wafer和固定芯片作用的膜。實際生產過程中,該種膜一般使用UV膜或藍膜。UV膜和藍膜在芯片減薄劃切過程中具有非常重要的作用,但兩者特性有明顯的區別。

2.UV膜是把特殊配方的塗料塗在PET薄膜表面,從而達到阻隔紫外光及短波長可見光的效果。一般的UV膜由三層構成,基本材質為聚乙烯氯化物,粘性層在中間,還有一層為覆層,很多UV膜型號都沒有覆層。

3.UV膜又叫紫外線照射膠帶,但是價格相對來說比較高,使用有效期比較短,分為(高、中、低)粘性三種,對於UV膜來說未經過紫外線照射前粘性很大,但在經過紫外線燈光照射後粘性會降低的同時Wafer的表面也不會有殘膠現象,bar條或chip容易取下。

4.藍膜又叫電子級膠帶,價格低,是一種藍色的粘性不變的膜,粘性剝離度不如UV膜但對紫外線照射不敏感,但受溫度影響後會發生殘膠現象,但是藍膜與UV膜相比較UV膜無論在紫外線照射前還是照射後粘性程度相對比較穩定,但是成本比較高;藍膜成本來說比較低但是粘性程度會隨溫度而變化,並出殘膠。


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三、生產中的應用分析

1.通常來說小芯片劃片時用UV膜,大芯片用藍膜。要是芯片在

劃裂後直接上倒封裝標籤生產線,那最好使用UV膜因為使用的芯片一般較小,而設備頂針在藍膜底部將芯片頂起時如果粘性程度大,在頂針頂起的時候芯片會發生碎裂

2.藍膜由於其受溫度影響粘性度會發生變化,而且本身粘性度較大,因此,一般面積較大的芯片或者 Wafer劃切之後直接進行後封裝工藝,而非直接進行倒封裝工藝Inlay時,可以使用藍膜。

3.UV膜與藍膜相比,它的粘性剝離度可變性使得其優越性很大,主要作用為:Wafer劃切過程中進行固定,用於保護芯片,防止其脫落或崩片用於Wafer 的翻轉和運輸,防止已經劃 切之後的芯片發生脫落。規範使用 UV 膜和藍膜各個參數,根據芯片所需要加工的工藝,來決定合適的 UV 膜或者藍膜。

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此次就介紹到這裡,咱們下期再見。

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