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下面介紹萊寶真空泵在真空鍍膜和光學鍍膜上有什麼區別？
真空鍍膜一種通過物理方法生產薄膜材料的技術。 真空室中材料的原子與熱源隔離，並撞擊要鍍覆的物體表面。 這項技術*首先用於生產光學透鏡，例如船用望遠鏡透鏡。 後來擴展到其他功能膜，例如記錄鋁電鍍，裝飾塗層和材料表面改性。 例如，錶殼鍍有仿金，然後對機床進行了塗層處理以改變加工硬度。 真空鍍膜主要使用輝光放電在目標表面擊中氬（Ar）離子。
靶的原子被噴射並沉積在基板表面上以形成薄膜。 濺射膜的性質和均勻性優於蒸發膜，但是塗布速度比蒸發膜慢得多。 幾乎所有新型濺射設備都使用強大的磁體使電子螺旋旋轉，以加速靶周圍的氬離子化，這增加了靶與氬離子發生碰撞的可能性，並提高了濺射速率。 通常，大多數金屬塗層使用DC濺射，而非導電陶瓷磁性材料使用RF AC濺射。 基本原理是在真空中使用輝光放電在目標表面上撞擊氬（Ar）離子。 隨著待建設的材料，等離子體中的陽離子將朝著負極表面加速。 這種衝擊將導致靶材飛出並沉積在基板上以形成薄膜。
一般而言，通過濺射工藝塗覆薄膜有幾個特點：金屬，合金或絕緣體可以製成薄膜材料。 相同組成的薄膜可以在適當的設置條件下由多個複雜的靶材製成。 通過在放電氣氛中添加氧氣或其他活性氣體，可以生產目標材料和氣體分子的混合物或化合物。 可以控制目標輸入電流和濺射時間，並且容易獲得高精度的膜厚。 與其他工藝相比，有利於生產大面積的均勻薄膜。 濺射的粒子不受重力影響，並且靶和基板的位置可以自由地佈置。 基材與薄膜之間的粘合強度是普通氣相沉積薄膜的10倍以上，並且由於濺射的粒子具有高能量，因此表面將繼續在成膜表面上擴散以獲得堅硬而緻密的表面 電影。 同時，這種高能量使基板具有較低的溫度。可以在溫度下獲得結晶膜。 薄膜的初始成核密度很高，並且可以產生10nm以下的非常薄的連續膜。 目標壽命長，可以長時間連續自動生產。 通過機器的特殊設計，可以將目標製成各種形狀，以實現更好地控制和高效生產。
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