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國內的半導體技術，就是芯片製造技術。
其實IC的設計，製造找幾個主攻的PhD就可以。主要在工藝上存在嚴重的落後。
先不說芯片三巨頭英特爾，按摩店和英偉達。就偏簡單的芯片，國內基本也依靠進口。涉及到規模的處理器，那就更依靠了。那麼究竟哪裡難以突破呢~
電子工程發展到現在，三極管可以說是功不可沒。它作為一個個的開關，撐起了芯片業。三極管是在一塊半導體基片上製作兩個相距很近的PN結，兩個PN結把整塊半導體分成三部分，中間部分是基區，兩側部分是發射區和集電區，排列方式有PNP和NPN兩種。通過在特定區域摻雜來畫出導電的區域。
三極管這種簡單的一塊基片畫幾根線的還比較好製作。可是，如果要在基片上面畫很多很多的三極管，依靠人們的手，侷限性就特別大了。所以要用機器刻。當畫一個特別特別多的三極管在一個基片，就要動用激光來刻，簡稱光刻。光刻那就必須要用到光刻機。其實，中國落後的芯片技術，主要落後在光刻裡上了。
目前華為自己研製的芯片kirin系列要臺積電代工而中芯國際和三星，臺積電要打7nm大戰。
光刻這個技術特別的複雜。而且超級精密。世界上可以做出來光刻機的有三家。分別是ASML，佳能和尼康。裡面ASML算是龍頭老大，佔市場份額的80%以上。可是荷蘭ASML和萬惡的美國等等成立一個技術保護協會，不給中國賣光刻機。中芯國際在去年末的時候打算引進一個7nm的光刻機。可是因為荷蘭總部聲稱起火了，一直沒有交付。
綜上，主要差在光刻機上。
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