2018年國際光刻機巨頭ASML阿斯麥的EUV光刻機設備總銷量達到18臺，並計劃2019年將完成30臺的交付量。
來自供應鏈的最新消息稱，臺積電將拿下 ASML這30臺EUV 光刻機出貨量中的 18 臺。
ASML表示，EUV的“劃時代”意義不僅僅是因為它極大地簡化了工藝流程，更在於它將全面支持我們的客戶推進7納米邏輯芯片和16納米DRAM工藝製程朝更尖端的方向發展。
單位時間內的晶圓產量提升是EUV商業價值的重要指標。
2006年，ASML第一臺EUV原型需要超過21個小時才能曝光完成一片完整的晶圓，妥善率（availability）小於10%。
進入新一代EUV曝光技術，2018年ASML的NXE:3400B已在客戶端測試中，實現每小時125片晶圓的產量里程碑，更達成80%以上妥善率（availability）。
EUV系統的運行速度，已在過去十餘年間提高了2,600倍，這是質的飛躍。
ASML進一步指出，推動高量產的“幕後英雄”是EUV光源的突破性創新。
ASML科學家Alex Schafgans也曾這樣評述EUV光源技術的探索過程：“我們並沒有按照原本規劃的方案走，之前我們計劃輸出更為強力的激光射線，但取而代之的，我們探索出如何更有效地將等離子體轉換為EUV光源。”
ASML 已與卡爾蔡司公司合作開發出數值孔徑為0.33的EUV光刻機鏡頭，並積極研發下一代0.55高數值孔徑(High-NA)光學系統，為推進3納米及以下製程做努力。
該光學系統與多重成像技術相比，成本將降低50%，週期時間將縮短3到6倍，並具備一流的套刻和聚焦性能。
ASML將在今年推出新一代的EUV光刻設備NXE：3400C，預計每小時達到170片晶圓產量，妥善率（availability）更將超過90％。該系統計劃於2019年下半年供貨。
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