此前，有媒體報道稱，中芯國際集成電路製造（深圳）有限公司，成功從荷蘭進口一臺大型光刻機。不過，該光刻機並不是外界盛傳的7nm光刻機，製造工藝只是中等水平。當然，光刻機作為集成電路製造中最關鍵的設備，對芯片製作工藝有著決定性的影響。
儘管沒能從荷蘭引進7nm製造工藝的光刻機，但中芯國際也可以繞過ASML光刻機，採用N+1工藝製造出接近7nm工藝的芯片。近日，中芯國際稱N+1工藝的芯片將於年底量產。
據悉，N+1工藝對比14nm功耗降低了57%、邏輯面積小了63%、SOC面積減少55%。這換算下來，正是可以比肩臺積電的7nm芯片。也就是說，我們沒有ASML的EUV光刻機，也能做出7nm芯片。
這意味著，中芯成為全球第三家掌握10納米以下工藝的芯片企業。而撐控著7nm製造工藝市場的臺積電，這回恐怕真的要急了。
中芯確實不易，一直以來，臺積電霸佔著這個市場，掌握著絕對話語權。中芯與臺積電的大戰，屢屢受挫。但意外的是，中芯並沒有放棄，而是再次向世界先進製程發起衝鋒！如今中芯國際這個是DUV工藝實現的7nm，雖然成本比EUV高些，但起碼是解決了從無到有的問題。
如果中芯國際成功量產了7nm工藝芯片後，無疑也將會讓國產芯片掌握越來越多的話語權。無論ASML是否賣EUV光刻機給中國，我們都需要研製出自己的高端光刻機。
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