光刻機沒能到來，5nm刻蝕機就先來臨，中國再次領先世界！眾所周知，光刻機的問題一直以來都是我國半導體行業的“心病”，截至目前，我國最先進的光刻機的精度僅為90nm，與西方國家最新的7nmEUV光刻機相比，這顯然是遠遠不夠的。然而，雖然我國在光刻機領域沒有取得太大的突破，但在光刻機的兄弟——刻蝕機上卻取得了十分不錯的成績。
既然你，上海傳來一個重磅消息，中微半導體設備公司宣佈，該公司自主研發的5nm刻蝕機已經成功破冰，並且得到了知名半導體企業臺積電的認可。更令人興奮的是，這款5nm刻蝕機將於2021年正式投產。
這個消息一出，我國半導體行業馬上就沸騰了，因為誰都沒有想到，原來在這項領域處於弱勢的中國，一下子成為了行業的“領路人”。相比對光刻機的重視程度，大家對刻蝕機的瞭解可謂是非常少，作為芯片生產環節中必不可少的設備，其實刻蝕機也是非常重要的。雖然相對光刻來說，刻蝕要簡單的多，但要將精度要求提升到5nm，那也是相當不容易的。
以目前的情況來看，中國絕大多數的半導體公司僅掌握了40nm和28nm技術，而這些都是西方國家上世紀流行的工藝，相比當下流行的7nm工藝，我國可謂是落後了很多。並且就算是要製造40nm和28nm芯片，我國還是要通過進口設備（光刻機），而5nm刻蝕機的出現將扭轉這一局面。
在5nm刻蝕機誕生後，中國已然走在了世界前列。據悉，目前ASML公司已經開始向5nm工藝進發，而接下來將要投入生產的蘋果A14芯片、驍龍875以及麒麟1020，這些芯片的製程工藝都將是5nm，而到那時，我國5nm刻蝕機也能夠投入量產，這樣一來，像臺積電這樣的芯片製造商很有可能會進口國產5nm刻蝕機。
中微半導體公司5nm刻蝕機的成功破冰意味著“中國製造”又一次突破了歐美國家的封鎖，並且第一次在芯片行業佔領“制高點”。我國不但不需要再向國外進口刻蝕機，很有可能西方國家還要向我國購買最新的5nm刻蝕機。在我國刻蝕機技術取得突破後，主要還是看光刻機產業如何發展了，相信在我國科研人員的努力下，總有一天光刻機也將迎來重大突破。
閱讀更多 崛起吧大國科技 的文章
關鍵字: 國創上頭條 技術 臺灣積體電路製造公司
