半導體制造業皇冠上的明珠 光刻機為何如此難做?

在疫情期間聽到很多真真假假的段子,其中,有一個筆者記住了,不久前,歐洲疫情大爆發,荷蘭也深受其害,當時俄羅斯媒體突然稱,“荷蘭想要擺脫目前的情況,可以通過光刻機和中國換取口罩。”雖不知此言論真假,但是,從這之中我們也看出了光刻機的重要性。

國內廠商中芯國際早在2018年中旬就向ASML訂購了一臺EUV光刻機,價格為1.2億美元,預計在2019年底交付,2020年正式安裝,但是,在2019年11月和2020年1月,ASML都延遲了發貨。而目前,疫情的爆發讓託運和旅行都受到了限制,中芯國際購買的這臺EUV光刻機到底何時能運送到,現在還是未知數。

光刻機是半導體核心

進口一臺光刻機如此引人矚目,原因是它對於半導體領域中極為重要的作用。我們首先要知道,光刻是半導體芯片生產過程中最複雜、最關鍵的工藝步驟。因為生產過程中,通過光刻將電路圖從掩模轉移至硅片上,直接決定著芯片製程水準和性能。

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不僅如此,這一過程耗時長、成本高,據瞭解,在半導體整個生產的過程中,會需要20-30次光刻,它會佔用整個生產環節一半的時間,三分之一的成本。

這裡簡單介紹一下它的生產難度:

一、曝光能力,曝光鏡頭對於膜系設計要求很高,首先需要用仿真軟件設計結構,實現特定的光學效果,設計出來後對於後續的生產加工要求更難,一方面是高端的鍍膜材料;

二、高精度鍍膜設備;

三、鍍膜工藝,如何高良率完成鍍膜工藝。拋光現在設備在逐步替代手工,設備可大大提高精度。

目前市場上主要的光刻機供應商有荷蘭的ASML、日本的尼康和佳能,以及中國大陸的上海微電子裝備(SMEE)。

ASML處於幾乎壟斷地位

ASML (全稱比較長: Advanced Semiconductor Material Lithography,目前該全稱已經不作為公司標識使用,公司的註冊標識為ASML Holding N.V),其總部在荷蘭Veldhoven。目前,最先進的5nm製程的EUV光刻機只有ASML一家公司可以生產。所以,導致高端光刻機市場已經完完全全被ASML壟斷。

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據Bloomberg數據顯示,在45nm以下高端光刻機設備 市場ASML佔據市場份額高達80%以上,在極紫外光(EUV)領域,ASML是獨家生產者,實現了全球獨家壟斷。從全部光刻機出貨量來看,ASML、尼康、佳能這三家公司佔據了全球99%的市場份額,其中ASML更是達到了67.3%的市場份額。

在ASML年報中顯示,他們在2019年向客戶交付了26臺極紫外線光刻機,較2018年增加了8臺,帶來的收入達到了31.43億美元。

目前,ASML的極紫外光刻機,包括TWINSCAN NXE:3400B和TWINSCAN NXE:3400C,這兩款極紫外光刻機可以用於生產7nm和5nm的芯片,後者更是ASML最新推出的,2019年全年共交付了9臺。

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據悉,目前ASML正在研發下一代EUV光刻機,與現款相比,下一代產品將會通過提升透鏡規格,使得新品在微縮分辨率、套準精度兩項指標上提升70%,以滿足芯片微縮的需求。

有一點值得注意, ASML有一項很有意思的規定,必須對他們進行投資,才能優先獲得供貨權,這樣的規定,使得ASML獲得了大量的資金注入,其中英特爾、三星、海力士、臺積電都在ASML中持有股份。

國內廠商距離有多遠?

說到國內光刻機的發展,就不得不提到上海微電子,他們的SMEE光刻機目前可以實現90nm,而且在國內市場份額超過80%。但是,我們上面提到,代表著全球最先進的ASML EUV光刻機已經可以實現5nm製程,僅從簡單的數字對比,也可以看出目前國內頂尖光刻機制造廠與國際頂尖水準的差距。是什麼造成了這個差距呢?

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首先,研製光刻機是一項漫長而且成本巨大的工作,所以離不開鉅額的研發費用,ASML每年研發費率始終維持在15%-20%,據ASML最新財報顯示,2020年第一季度將會投入5.5億歐元的研發成本,這對於任何企業來說都是一筆鉅額資金,但是,ASML就是靠大額資金砸出來的世界第一。

還有,我們要了解,光刻機的製造需要各種零部件的整合,ASML公司CEO Peter Wennink表示,ASML的EUV光刻機需要繼承全球數百家公司的技術,裡面內置了8000多個零部件,不僅如此,就連很多零部件的構造都非常複雜。

Peter Wennink還舉了一個簡單的例子,卡爾蔡司為ASML提供了光學鏡頭,並集成了各種反光鏡及光學部件,而這個世界上沒有一家公司可以複製他們的技術,這也是製造EUV光刻機的公開秘密。所以,ASML認為,沒有任何一家公司可以複製出他們的成果,即便是把圖紙公開也不可能完成。

一臺EUV光刻機需要太多技術、零部件支撐,但是,關鍵零部件來自不同的西方發達國家,比如美國的光柵、德國的鏡頭、瑞典的軸承、法國的閥件等等,這也體現了我國目前與世界頂尖精密製造領域的差距。

所以,我國光刻機制造方面的落後,其實主要還是多方面的原因,這個並不是短期能解決的問題。

寫在最後

ASML目前在光刻機制造領域的進展確實帶動了芯片行業的騰飛,或者說,芯片行業的激烈競爭,讓ASML可以有極為充實的研發資金來創造出更尖端的機器,好像,兩者相輔相成,但是,我們總覺得少了點什麼。

就現階段來說,我們不能否認目前我國光刻機行業與世界頂級的差距,但是,我們要正視這個差距,它也不是我們裹足不前的原因。先做好中低端產品,培養國內零部件製造,經過時間的積累,相信我國光刻機制造業,也能取得突破。


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