新萊應材爭取配合廠商製作光刻機,可用於7nm以下乾式刻蝕製程

與非網 4 月 2 日訊,據瞭解,新萊應材是國內唯一覆蓋真空半導體、生物醫藥、食品安全三大領域的高潔淨應用材料製造商。

近日,高潔淨應用材料製造商新萊應材表示,光刻機領域根據結構圖紙是有機會可以使用到我司的真空系統產品,我們也一直努力試圖跟ASML接觸,同時也希望能透過真空技術與國內其他廠家配合製作科研級光刻機並逐步推展到半導體市場。7nm 以下的製程是否實現國產替代這個我們不是很瞭解,但我們的產品可以用於 7nm 以下的乾式刻蝕製程。

新莱应材争取配合厂商制作光刻机,可用于7nm以下干式刻蚀制程

關於訂單,新萊應材表示,目前公司在手訂單充足,由於疫情原因導致復工時間推遲,影響出貨。目前,已完全復工復產,努力將疫情的影響降到最低限度,對全年完成較好銷售充滿信心。目前,海外疫情比較嚴重的區域暫不是公司外銷主力區域,受疫情影響有限。

2019 年上半年,新萊應材積極推進創業板公開發行可轉換公司債券事宜,以加快推進公司用於半導體行業超高潔淨管閥件生產線技改項目。新萊應材表示,本次募集資金投資項目的建成一方面有利於提升產品附加值,提高企業的盈利能力;另一方面有助於提升公司的品牌價值,建立品牌優勢,提升公司半導體行業超高潔淨產品的市場佔有率和市場認可度。


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