ASML公司再發力！1nm工藝EUV光刻機投入研發，性能暴增70%。在美國加大對我國中興和華為的制裁力度後，自研芯片又在我國市場中掀起了一場浪潮，各大公司紛紛投入了“中國芯”的研發之中，因為只有實現芯片的自主研發，才能真正不受制於人，然而，華為等公司研發芯片，也僅僅侷限於設計上，在芯片的生產上，華為還是需要尋求臺積電進行代工，這是為什麼呢？實際上，是因為我國無法制造先進的光刻機。
說起光刻機，就不得不提起一個公司，它就是荷蘭的ASML公司，截至2020年，全球光刻機市場依然被荷蘭ASML這一家公司壟斷，資料顯示，目前90%的光刻機都來自於ASML，另外，目前最先進的高端EUV光刻機也由ASML公司獨家掌握，可以說在光刻機的生產上，ASML公司佔據著絕對的優勢。
近年來，芯片的製程工藝一直在不斷提升，從最初的28nm工藝，到14nm工藝，再到10nm、7nm工藝，甚至5nm工藝，這實際上都歸功於光刻機的提升。目前，ASML公司還在加快光刻機的開發進程，據外媒報道，ASML公司目前正計劃研發最新一代的EUV光刻機，並且這代光刻機將有望在2022年面世。
目前，ASML公司主要出口的光刻機型號為NXE:3400C，這款光刻機採用了目前最先進的模塊化設計。由於舊版光刻機的結構十分複雜，零件數目多達10萬個，維護起來非常困難，而採用模塊化設計的光刻機維護起來十分方便，不易損壞，還能同時支持7nm和5nm這兩種先進的製程工藝，目前，三星和臺積電等芯片生產商已經成熟掌握7nm芯片工藝，市面上最新的驍龍865、麒麟990均採用7nm工藝，另外據臺積電負責人介紹，臺積電將在下個月開始生產最先進的5nm芯片，這個好消息讓半導體行業徹底沸騰了。
然而，ASML公司可能覺得5nm工藝還不夠，因為更高的工藝代表著更高的性能和更低的功耗，簡單的來說，就是能耗比的提升。據相關人員透露，這一次ASML公司決定投入研發最新一代的EUV光刻機，也就是EXE:5000系列。卡爾蔡司、IMEC比利時微電子等公司都將參與到這款光刻機的研發中，據透露，其性能相比上代光刻機將提高70%左右，更令人興奮的是，這次的光刻機將有望突破2nm製程工藝，實現更先進的1nm工藝。
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