近日，全球半导体装备行业巨头之一美国泛林公司与EUV光刻机垄断者ASML阿斯麦、世界领先电子技术研发中心IMEC比利时微电子中心合作研发出新的EUV光刻技术，不仅提高了EUV光刻的良率、分辨率及产能，还大大减少光刻胶用量，大幅降低生产成本。光刻胶作为光刻过程中最重要的耗材，其质量将对光刻工艺有重要影响。随着EUV光刻技术的进步，光刻领域迎来新的突围机会，光刻胶也将面临新的发展窗口期。
由于各种原因，ASML先进的EUV光刻机迟迟不能交付中芯国际，导致其7nm工艺量产一度受阻，然而经过不懈努力，中芯国际已突破不依赖EUV光刻技术的7nm工艺。尽管如此，国内先进的光刻胶却仍需要严重依赖进口，进一步期待能够实现光刻胶突破！
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