陋室聽風812
看了不少題主的回答，很多人都提到了當前光刻機難點核心是外部技術封鎖，這點個人並不能苟同。技術封鎖的因素的確存在，但更為核心的其實還是我國整體材料學和製造業的落後，這才是真正的主因。
我國有光刻機生產企業但水平落後：
我國當然是有光刻機生產企業的，而且還很多，只是整體制造水平不行，相比先進的光刻機差距很大。目前國內水平最高的光刻機廠商是上海微電子，目前量產的光刻機是90nm。按照量產一代，試製一代，預研一代的進度，現階段已經在完成了65nm光刻機的試驗，正在研發攻關28nm光刻機。上海微電子雖然整體水平落後，但從成立至今18年來一直在持續努力追趕中。
光刻機難造的核心是材料學無法突破：
目前全球範圍內其實沒有任何一家企業有能力獨立製造一臺光刻機，荷蘭ASML也不例外，想要造一臺光刻機至少需要幾萬個配件，因此涉及到的廠商其實非常眾多。
不管是ASML，還是日本的光刻機廠商尼康、佳能，以及我國的上海微電子本質都是光刻機系統製造商，他們都需要全球範圍內各配件廠商給提供合格的配件才能生產出一臺光刻機。
因此，困擾我們無法生產高端光刻機的其實還是這些配件廠商。我這裡就拿光刻機的主要子系統也就是曝光光學系統和超精密工件臺來大致聊聊。
1、曝光光學系統：涉及到光學領域的技術，這塊我國其實一直很難突破。而荷蘭ASML所使用的鏡頭是德國的蔡司，對於這家廠商我想玩攝影的應該都清楚他在業界的實力，全球頂尖的光學、光電企業。而日本的兩家光刻機生產廠商大家也耳熟能詳，也就是尼康和佳能，在光學領域都是一頂一的好手。有這樣的光學技術在手，那麼整個光學系統以及對應的鏡頭就能很好的得到解決。
2、再來說說超精密工件臺：前面提到上海微電子已經完成65nm光刻機的試驗，這裡非常關鍵的一點就在於我國現在能自主生產滿足65nm光刻機使用的雙工件臺（見下圖），這家企業叫華卓精科，是全球第二家能自主研發生產雙工件臺的企業。如果說，沒有這家企業的出現，掌握自主的技術，那我們65nm光刻機的進度或許會更慢一些，你採用外國的設備很難說不對你進行阻擾。
綜合來說，光刻機自身的研發難度的確非常大，但是一臺機器是有各種子系統組成的，如果說各個子系統的核心部件我們都能掌握，那麼整個光刻機的研發難度就會大大下降，受到所謂的外在技術封鎖的可能性就會越小。
Lscssh科技官觀點：
因此，對於光刻機的難造，我們更應該明白背後這些真正的難點，當我們哪天的製造業，材料學等技術全面取得突破提升時，這光刻機也就相對不難造了。其實不光是光刻機，包括航空發動機等領域也是類似狀況。
現在，就全球範圍而言，只要我國能生產的設備和配件，國外企業基本上都會放開限制，只要我們無法做到自主研發生產的，或多或少都存在各種封鎖，這就是我國當前的現狀。
