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中國光刻膠製造商對標國外先進技術理念，提升光刻膠國產化率
全球光刻膠的核心技術基本被日本和美國企業掌握，中國在光刻膠行業與國際先進水平相比仍有差距。一方面，中國光刻膠關鍵原材料和光刻膠設備主要依賴進口，對外依存度大；另一方面，中國光刻膠製造商起步晚，缺乏技術積累，導致中國光刻膠製造商的市場競爭力弱。近年來，受益於國家"02專項"的支持，中國本土光刻膠製造商積極提升光刻膠產品技術水平和研發能力，推進光刻膠國產化的進程。
光刻膠行業定義及核心技術分類
光刻膠是由樹脂、感光劑、溶劑及各類添加劑等組成的對光敏感的混合液態感光材料。在圖形轉移介質經過曝光、顯影、刻蝕等一系列流程環節後，光刻膠可將所需要的掩膜板圖形轉移至代加工襯底上。光刻膠是半導體、平板顯示器、PCB等微電子、光電子領域加工製造中使用的關鍵材料，其性能直接影響了下游應用產品的集成度、功耗性能、成品率及可靠性。光刻膠根據顯示效果的不同，光刻膠可分為正性光刻膠和負性光刻膠。
光刻膠行業分類（按顯示效果劃分）
中國光刻膠行業產業鏈分析
中國光刻膠行業產業鏈由上至下可分為上游原材料供應商和設備供應商，中游光刻膠製造商及下游應用終端領域。
中國光刻膠行業產業鏈
上游：
上游參與者為溶劑、樹脂、光敏劑等各類原材料供應商和光刻機、顯影機、檢測與測試等設備的供應商。溶劑、樹脂、光敏劑是光刻膠生產的主要原材料，其中光敏劑在光刻膠生產總成本中佔比達到60%。整體而言，中國從事光刻膠原材料研發及生產的供應商較少，中國光刻膠原材料市場主要被日本、韓國和美國廠商所佔據。因此，中國光刻膠製造商對進口材料依賴性較大，在上游原材料環節的議價能力弱。
在上游設備供應商方面，光刻機、顯影機、檢測與測試設備是中國光刻膠製造的核心設備。此類設備主要依賴美國、日本、荷蘭等國。其中荷蘭ASML已壟斷了高端光刻機市場。由此可見，中國在行業上游設備市場方面不具備競爭優勢，國外設備廠商的議價能力強。
中游：
中游參與主體為光刻膠製造商，主要負責光刻膠的研發、製造和銷售。目前中國蘇州瑞紅和科華微電子在光刻膠產業積極佈局，且其光刻膠取得下游廠商的認證，這兩家企業已在光刻膠領域取得較大進步，推動了光刻膠國產化進程。
整體而言，中國光刻膠製造商與國外製造商相比，中國本土光刻膠製造商技術不高，市場競爭力不強。未來，在光刻膠國產化進程加快的趨勢下，光刻膠製造商發展空間將逐步增大。下游：
下游應用終端領域主要包括半導體、平板顯示器和PCB領域。行業下游應用終端領域對光刻膠行業在產品設計、技術發展上具有導向性，尤其是半導體、平板顯示器和PCB行業的發展對光刻膠行業的發展具有至關重要的作用，這三大行業應用領域的終端用戶在光刻膠行業產業鏈中具有強大的議價權。
中國光刻膠行業市場規模分析
在全球高新技術發展的背景下，中國政府高度重視半導體、平板顯示器及PCB行業的發展。在國家一系列紅利政策帶動下，中國半導體、平板顯示器及PCB行業發展勢頭良好。作為半導體、平板顯示器及PCB行業製造環節中關鍵的材料，光刻膠的市場需求得到快速釋放，尤其是平板顯示器用的光刻膠產量增長，中國光刻膠產量呈現穩中有升態勢。 根據頭豹研究院數據顯示，中國光刻膠產量從2014年的6.3萬噸增長到2018年的9.0萬噸，年複合增長率為9.3%。
受益於中國紅利政策的扶持，中國本土光刻膠製造商積極提升光刻膠產品技術水平和研發能力，推進光刻膠國產化的進程。未來，中國有望突破高端光刻膠產品的技術壁壘，帶動中國光刻膠產量進一步提升。與此同時，全球半導體產業、平板顯示器、PCB行業逐漸向中國轉移，帶動中國光刻膠的需求激增，中國光刻膠行業擁有較大發展空間。除此之外，在中國"工業4.0"、"互聯網+"和"中國製造2020"持續深化發展的背景下，行業下游應用終端領域對光刻膠的需求有望持續增長，從而推動中國光刻膠產量提升，因此未來5年內光刻膠市場規模將保持高速增長，市場發展空間廣闊。
中國光刻膠市場規模，2014-2023年預測
中國光刻膠行業驅動因素分析
· 5G商用帶動光刻膠行業發展
為實現無線傳輸、增加傳輸速率，大規模的天線陣列和超密集組網是發展5G的關鍵技術，而高頻PCB是5G通信基材，具有低損耗、高可靠性、高頻特性等特點。在5G技術的發展下，5G新建的通信基站數量將會達到4G時代的2倍以上，超密集小基站的建設擴大了高頻PCB需求。作為PCB製造環節的必備材料，中國光刻膠市場需求相應地將快速釋放。
· 全球半導體制造基地向中國轉移
2017年至2020年期間，中國大陸將新建27座晶圓廠，在全球新建晶圓廠數量中佔比為43.5%，中國將成為全球晶圓廠投資活動最活躍的地區。在半導體集成電路生產製造過程中，光刻工藝佔整個集成電路製造成本的35%左右，光刻膠是光刻工藝實現選擇性刻蝕的關鍵材料。因此，全球半導體制造基地向中國轉移，促使了中國半導體產能增長，從而帶動中國光刻膠市場需求的增長。
· 中國光刻膠技術逐步提高
受益於國家"02專項"的支持，中國光刻膠行業從起步時期依靠進口發展到如今已具備部分光刻膠產品研發和製造能力，中國光刻膠行業在i線光刻膠、g線光刻膠、KrF光刻膠、EUV光刻膠取得了一定的技術進步，推動光刻膠國產化程度的提升。
中國光刻膠行業驅動因素
中國光刻膠行業發展趨勢
· EUV光刻膠將成為主流
雖然現階段光刻膠製造商已成功利用ArF浸沒式光刻工藝和多重曝光技術突破ArF光刻膠的極限分辨率，使得可加工的微細線路尺寸縮小到10納米和7納米工藝節點，但ArF光刻膠未能實現特定圖形線路圖製造，而EUV可通過縮短光線的波長來提高曝光時的分辨率，從而滿足微細圖形線路的加工製造需求。因此，隨著微細圖形線路的加工製造需求提升，EUV作為實現14納米節點以下的最可行方案將成為未來光刻膠行業主流應用。
· 光刻膠產品定製化需求增長
為滿足行業下游個性化的需求，光刻膠製造商需要根據下游終端應用領域企業提出的整體生產工藝和定製化設計需求，設計和製造出符合客戶產品的技術和生產工藝，同時還需提供一體化技術綜合服務和產品升級服務等解決方案。因此，
在全球製造業供給側結構升級的背景下，行業下游應用領域市場將趨向非標準化，推動定製化光刻膠需求的增長。· 光刻膠產品國產化程度提升
由於光刻膠行業的技術壁壘較高，一旦企業缺少核心技術，將在光刻膠市場不具備競爭優勢，這樣的形勢促使中國本土領先光刻膠企業通過加強技術研發，以減少與國外企業的技術差距，推出自主研發的國產光刻膠以替代進口。隨著中國光刻膠技術不斷進步和行業下游需求持續增長，未來中國光刻膠將逐步完成國產替代進口，光刻膠的國產化趨勢明顯。
中國光刻膠行業發展趨勢
深度見解
光刻膠行業作為半導體、平板顯示器和PCB製造環節中的關鍵材料，經過多年的發展，中國光刻膠技術已有突破性進展。在國家出臺相關利好政策的背景下，中國光刻膠製造商在光刻膠研發技術上積極性增強，當前中國光刻膠的研發技術水平逐漸提高，在製造工藝技術和配方工藝領域積累了豐富經驗，中國光刻膠行業正加速發展。未來，隨著中國光刻膠企業對光刻膠的研發投入持續上升，中國光刻膠企業的技術水平將不斷提高，中國有望打破國外企業在光刻膠市場的壟斷格局，國產光刻膠有望迎來發展新機遇。
本文援引於報告《2019年中國光刻膠行業研究報告》，首發於頭豹科技創新網（www.leadleo.com）
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