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尹志堯的5納米刻蝕機，全球領先，不可動搖，目前臺積電生產的最先進芯片的刻蝕機都是中微公司尹志堯的功勞！北方華創14納米的刻蝕機都是世界的翹楚，更何況5納米的刻蝕機更是獨領風騷，可以這麼說，如果沒有尹志堯等離子刻蝕機，現在的臺積電7納米工藝辦不到！

有人說光刻機更重要，我要說同樣重要，如果沒有好的刻蝕機，光刻機再好，繪製的圖案再精細，再完美，再巧妙，也無法得到無瑕的實物雕…很顯然，光刻機只是最大最完美的繪製工具，刻蝕機才是去偽存真的最後一召…

中國民族是最聰明的民族，只要上下一心，齊心協力，有了發展的土壤，天時地利人和，一定會迸發出驚世駭俗奇蹟…

力通科技論壇

在回答這個問題之前，必須要解釋清楚，到底什麼是刻蝕。很多人看到新聞說可以刻蝕到5nm，就以為國內掌握了5nm芯片製造工藝，超出英特爾等巨頭了，這是個極大的誤解。之所以會產生這種誤解，是因為大家對芯片製造工藝完全不瞭解，各個步驟分不清。簡單地來說，刻蝕是芯片製造中的重要一環，但更重要的一環叫做光刻。

要製成一個芯片，首先要通過光刻機將設計的集成電路“縮印”到光刻膠上，這個過程往往需要進行多次，這也是整個芯片製造流程中最最重要的一環，所謂的7nm啊之類的都是指這個步驟中光刻圖形的最小特徵尺寸。中國現在最為缺乏的就是這個最最核心的環節，離世界一流水平還有相當大的差距。

而將集成電路縮印到光刻膠之後，經歷一系列步驟，才會進行刻蝕的環節。等離子體刻蝕機屬於幹法刻蝕的一種，即不會使用化學溶液，而是將氣體電離形成等離子體，利用電場加速後，利用等離子體對錶面進行刻蝕的工藝。

理清楚了這個關係，再回來看這個問題。這項技術的高水平是毋庸置疑的，即便在世界範圍內也是一流的，尹志堯先生髮展的這項技術對國內半導體工業的貢獻是巨大的。同時也要分辨清楚，5nm刻蝕與5nm光刻不是一回事，更不意味著可以做出5nm芯片。我們在芯片領域還有很長的路要走，千萬不要盲目自大。

看風景的蝸牛君

國產半導體設備與材料正積極打破國外壟斷局面，邁入先進工藝製程領域。其中北方華創、中微則是國產裝備的領軍“旗手”。北方華創目前14nm等離子硅刻蝕機臺已正式交付客戶；同時中微傳出年底將正式敲定5nm刻蝕機臺。這是國產半導體裝備在先進工藝製程相繼取得的重大突破。

北方華創總裁趙晉榮對DIGITIMES表示，國內芯片廠當前對於把握度較高的65nm、55nm工藝有替換性的裝備性價比需求；此外，放眼未來2-3年國內新的晶圓廠相繼導入裝備，其中，國內正在聚焦量產的存儲器晶圓廠，在未來對國產裝備採購更具自主性、彈性。

近日北方華創更接獲來自中芯國際的二次訂單，顯示其裝備在工藝製程領域已具備相當穩定度。

據瞭解，中芯國際12吋廠是北方華創重要的先進工藝製程客戶之一。尤其今年中芯國際28nm規劃客戶芯片將放量成長，尤其在HKMG工藝上要取得量產突破，國產裝備將扮演推助的角色。

北方華創表示，目前在集成電路製造領域，14nm等離子硅刻蝕機也已交付客戶，28nm Hardmask PVD、Al-Pad PVD設備已率先進入國際供應鏈體系，12吋晶圓清洗機累計流片量已突破60萬片大關，深硅刻蝕設備也順利跨入東南亞市場。

此外，先進封裝領域，公司刻蝕機和PVD設備已在全球主要企業中得到廣泛應用，其中PVD機臺已成為全球排名前三的CIS封裝企業的首選機臺。

裝備國產化增長如“星星之火”

趙晉榮更表示，國內集成電路核心裝備開始萌芽，中國國產設備採購額開始逐年增長，已有“星星之火”足以燎原之態。

他指出，在一些細分市場如刻蝕機、PVD、PECVD、單晶爐、退火爐、封裝光刻機臺等裝備，已經基本實現了國產化，這個過程約用了5年時間；而集成電路高端裝備的國產化用時也許還需5年，或許10年，但已經是大勢所趨。

儘管當今國產裝備在集成電路的採用率較低不到10%，但他樂觀認為，未來3年可望一舉提升至30%。

北方華創2016年半導體設備營業收入由5.2億元增長到 8.1億元人民幣，比上年同期增長56.18%，預期2017年在重大訂單挹注下營收將持續成長。

事實上，不僅北方華創近年來嚐到國產裝備成長的“甜頭”，其他裝備廠家在2016年都實現相當亮麗的增長態勢，如瀋陽新松年增長率近126%、北京京儀自動化成長145%、靖江先鋒增長約38%、瀋陽科儀增長80%等等。再再顯示國產裝備材料過去幾年沉潛近兩年呈現跳躍式增長。

中微5nm刻蝕機年底推出市場

中芯國際另外一家重要裝備合作伙伴還包括刻蝕機的製造商深圳中微半導體（AMEC）。近日傳出，中微將在2017年底敲定5nm刻蝕機，為此中微已經研發了5年之久。

目前國內僅中芯國際啟動7nm工藝製程研發，約落後國外巨頭如英特爾、三星、臺積電等一線大廠2-3個世代，其中最先進的工藝製程的裝備多數由國外廠家把持，但國產裝備則積極尋求突破口。

中微半導體CEO尹志堯表示，5nm刻蝕機臺正在測試中預計今年底正式推向市場。但中微研究團隊也提到，刻蝕機的成熟到導入芯片入商用量產，大約還需要5年的時間。

中微預估，今年公司銷售可望成長70%以上，產值將達11億元人民幣。尹志堯表示，根據預估中國到2020年將採購480億美元的集成電路生產設備，中國本地裝備的國產化必須持續進程，逐步提高自給率。

如花美眷也敵不過流年

大致科普一下吧，省得太多不懂的人意淫。 幾納米不是由刻蝕。 光刻機的價格是刻蝕機器的十倍不止。 光刻機最核心的部件是光學組件和步進精度的機械組件，國內與國外差了二十年，某某研究所拿了數十億的經費，就買來國外的組件自己拼裝，可惜的的是，90納米的精度都做不到。 刻蝕機靠的是高頻RF使刻蝕氣體等離子化，等離子體的活性強，可以在

首先，幾納米幾納米，是靠光刻機在光刻膠上來成像的，和照相原理類似。 5nm是指這個光刻機的成像精度， 5nm尺寸的圖形能不能清晰呈現。 首先在硅片上塗敷光刻膠，然後使用光刻機曝光，光刻膠上曝光結束之後，將硅片置於刻蝕機的等離子體的氛圍中反應。 硅被反應，這樣光刻膠上的圖像能夠直接寫入到硅片上去。

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