2019生旦淨末醜
首先說下世界上生產光刻機的幾個品牌
ASML
尼康
佳能
歐泰克
上海微電子裝備
SUSS
ABM, Inc.
大家最熟悉的莫過於ASML了，經常有新聞報道這家人數不多的公司，每個高端光刻機的流向，都會引起人們矚目，每一代高端cpu都離不開它的身影，而且有些型號還屬於禁運品，可想而知它的重要性了。
下面我們說說國內的上海微電，由於各國對高端光刻機的控制，我國也於02年開始開發研製，主要提供90nm及以下的製造能力，還是面對低端市場，能很大解決國外壟斷現象，提高我國芯片生產能力，主流的7nm生產工藝還主要在臺積電，三星(只是使用方，沒研發)手中，不過我們也是奮發圖強，每年二三百臺的出貨量，大大提高我國芯片的競爭能力，如果分上中下三個等級的話，我感覺上海微電屬於中等偏下水平，不過隨著我們科技強國戰略，這個等級還會隨時變動，希望能造出超一流的設備，打造中國自己的高端芯片
農夫差點甜
如果說上海微電子的光刻機全球領先，大家都不會相信。荷蘭ASML最新的光刻機為7nm製程工藝，即將量產5nm，上海微電子最新的量產光刻機是90nm，正在研發65nm光刻機。也就是說，我國的光刻機與世界先進水平還有很大的差距。
真正的差距在哪裡？
上海微和荷蘭ASML光刻機的差距，客觀反映了我國和西方發達國家在精密製造領域的差距。一臺頂級光刻機的零部件，來自於西方不同的發達國家，美國的光柵和計量設備、德國的光學設備和超精密機械、瑞典的軸承、法國的閥件等等，最要命的是，這些頂級零件對我國是禁運的。
荷蘭ASML的光刻機，90%的關鍵設備來自於不同的發達國家，自己並不生產關鍵零部件，而是做好精準控制和集成，將13個系統的3萬多個分件做好精準控制，誤差分散到這13個系統中。上海微電子同樣是一家系統集成商，自己並不生產關鍵零部件，所以在沒有頂級零部件、沒有突破關鍵技術的情況下，做不出7nm光刻機光刻機不是它的責任。
有錢買不到？
還有一個關鍵的問題，荷蘭ASML的7nm EUV光刻機，處於壟斷地位，全球只有ASML能夠生產，而且產量有限，即便有錢也很難買到，原因有兩點。
原因一：ASML的合作模式
ASML有一個獨特的合作模式，只有投資了ASML，才能獲得優先供貨權，也就是說ASML要求客戶先要投資它自己才行，通過這種合作模式，ASML從來不用擔心錢的問題，包括英特爾、三星、臺積電、海力士等都是ASML的股東，可以說大半個半導體行業都是ASML的合作伙伴。
ASML的高端光刻機產量本來就不高，早早就被英特爾、臺積電等這些公司預定了。
原因二：技術封鎖
我國進口高技術設備時，無法繞開的一部法令是《瓦森納協定》，美國和歐盟等國家都是其成員國，這是一部全球性的法令，我國就在被禁名單之內。這個協定也不是完全禁售，而是禁售最新幾代的設備，比如2010年90nm以下的光刻機對我國禁售，2015年改成65nm。
我國的晶圓廠中芯國際，早在2018年就從ASML成功預訂了一臺7nm EUV光刻機，先是因為ASML的合作伙伴失火，導致訂單延期，無法交貨，後是因為受到美國的牽制，荷蘭不予簽發許可證，所以，中芯國際至今仍然沒有收到，其中的原因大家可以想一想。
總之，在光刻機領域，我國與世界先進水平還有巨大的差距，而且光刻機的研發不能實現跳躍，沒有突破65nm之前，是無法研發24nm的。同時，ASML向我國晶圓廠出售高端光刻機時，有保留條款，禁止給國內自主的CPU代工，比如給龍芯、申威等，但不影響給ARM芯片代工，很大程度上影響了自主技術和我國半導體產業的發展。
Geek視界
這個問題非常好，提到光刻機，不能不說這是國人心中一個深深的痛。
中芯國際（SMIC）為了發展最先進的7納米芯片製造工藝，在2018年初，以1億多美元向荷蘭ASML訂購了一臺EUV紫外線光刻機。然而，近兩年過去了，ASML受到美國的各種施壓，遲遲不向中芯國際交付這一臺高端光刻機。而我們沒有絲毫辦法，這不能不說是店大欺客，欺人太甚。
上海微電子（SMEE）作為國產光刻機唯一的提供商，在目前本土高科技發展，尤其是芯片被美國窮盡手段阻斷的情況下，它的存在無疑成為國內芯片製造的唯一希望。
那麼上海微電子在光刻機領域的實力究竟如何呢？
其實這裡要先說明一下光刻機的分類，從用途上區分，其主要有四大類：製造芯片的前道光刻機，封裝芯片的後道光刻機，製造LED/MEMS/功率器件的光刻機，以及製造TFT液晶屏的光刻機。
而上海微電子對這四種光刻機都有涉足，尤其是封裝芯片的後道光刻機，其在國內具有80%的市場佔有率，在國際上也有近40%的佔有率，每年都有近60臺的出貨量。
其客戶都是世界前十大封測工廠，比如國內的長電科技JCET，通富微TF，以及臺灣的日月光半導體，這是非常了不起的成就。
上海微電子的研發實力也不容小覷，在光刻機領域的專利申請量有近3000項。在國內半導體設備廠商的綜合排名中，位居前五名。
但是在半導體制造中，最核心的其實屬於前道光刻機，其在半導體制造成本里佔30%之多，中芯國際向ASML購買的EUV極紫外線光刻機就屬於前道光刻機，可用於生產7納米工藝的芯片。
而上海微電子目前可以提供的最先進前道光刻機，只能用於生產280納米，110納米和90納米工藝的芯片。從這方面講，上海微電子與世界前三大光刻機生產商ASML，佳能Cannon和尼康Nikon的差距，是非常巨大的。
除了上海微電子之外，中科院和華中科技大學都有對光刻機的研發，但這都停留在實驗室的階段，很難進入商用。
比如中科院號稱開發出的“22納米光刻機”，採用表面等離子技術，不同於EUV極紫外光技術，具有很大的缺陷，無法生產CPU和顯卡GPU等電路非常複雜的芯片，這決定了，其無法進入商用領域。
華中科技大學國家光電中心甘棕松團隊，利用雙光束超衍射的技術，開發出的光刻機，目前僅能用於微納器件的三維製造，距離進行集成電路芯片製造，還有很多技術需要攻克，更別提進行成熟的商用芯片製造 。
由此我們可以看出，媒體上很多宣稱打破國際封鎖，開發出的幾納米光刻機，基本上距離商用都很遙遠，有的甚至基於不同目的還偷換概念。
這從另一個側面說明，上海微電子在國內光刻機領域，是唯一有希望進行更高端光刻機研發的企業，因此它的地位是無法替代的。
值得一提的是，從相關渠道瞭解到，上海微電子正在02專項的支持下，進行28納米前道光刻機的研發，已經取得了很大的進展。從90納米跨越到28納米，如果能實現，也是一個了不起的進步，期待上海微電子的28納米光刻機！
半導體國際資訊
從全球來看，處於最低檔的水平，離最強的ASML應該至少有10年以上的差距。
為何這麼說，目前上海微電子光刻機還是處於量產90nm的階段，目前還在研發65nm，而ASML目前最牛的光刻機可用於生產5nm的芯片，具體的各個級別的光刻機分類如下：
如上所示，如果分為四類，分別是超高端、高端、中端、低端的話，上海微電子處於最低端，而這個技術，ASML10年前就有了，所以說離ASML至少是10年的差距，這還要ASML停留在原地等才行。
那麼從90nm到5nm，從當前的芯片主工藝來看，至少可以分為65nm、40nm、28nm、20nm、16/14nm、10nm、7nm、5nm等。
而這些節點技術，有好幾個臺階要上，首先是45nm的臺階，再到22nm的臺階，再到10nm臺階，再到7nm的臺階，真的是一步一個坎，有些坎幾年都未必能夠更新出一代來。而這些節點，真的是一步一臺階，越到後面越難，所以這個差距真的是非常大的。
網上一直流傳著一句話，ASML曾說就算他公開圖紙，別人也生產不出和他一樣的光刻機來，因為光刻機的技術，很多是經驗積累，並且和芯片製造廠商的合作一起研發，並不是靠著元件就能夠解決的，而國內芯片製造技術本來就落後，這樣無法強強聯手，很難追上ASML。
互聯網亂侃秀
上海微電子光刻機在全球屬於什麼水平？上海微電子光刻機在國內是最先進的光刻機研發製造企業，其前道光刻機能夠實現90nm製程，在國內市場份額超過80%，並且也銷往國外。但與國際先機光刻機相比，上海微電子光刻機卻處於低端光刻機序列。
目前光刻機市場幾乎被荷蘭ASML、日本尼康和佳能、中國上海微電子設備集團四家所壟斷。而在這裡面，又分為三個檔次，荷蘭ASML壟斷了高端光刻機市場份額，日本尼康和佳能處於中端但同時競爭中低端市場，而上海微電子只有低端光刻機市場。其中ASML採用13.5nm的光源，可以實現7nm的製程，未來還將會實現更小nm的工藝。而上海微電子目前只能實現90nm工藝製程，差距不小。
上海微電子集團成立與2002年，成立之初當時國外公司曾經嘲諷：“
即使把圖紙和元器件全部給你們，你們也裝配不出來。”。然而上海微電子經過自力更生艱苦奮鬥，硬是打臉了國外公司的臉，在2007年研製出了我國首臺90nm製程的高端投影光刻機。
不過由於樣機一出來因為採用了國外引進的高精度元器件，這時西方國家醜惡的嘴臉暴露了出來，擺出了《瓦森納協議》共同對我國實現高精度元器件禁運。以至於到目前即使研究出更好的光刻機，要大量生產也受到了國內產業鏈的限制。但
上海微電子硬是憑藉一口氣，還是又研製出了另外的光刻機出來，並逐漸在國內贏得了市場。現在國內已經意識到光刻機相當重要的作用，中芯國際已經花了將近1.5億美元引進ASML高端光刻機，但過去了兩年還未能交貨，因為國外有阻擾要得到這臺高端光刻機會經過不少波折，最後也不知道能不能成。國內相關的機構也在重點突破光刻機技術，比如中科院光電所已經研究出光刻分辨力達22nm的技術，結合雙重曝光技術可以實現10nm芯片的製造。
不過光刻技術攻克後，要實現光刻機量產還有不少的時間。特別是需要幾萬個零部件要達到高精準度的高端光刻機，其中的關鍵高精度零部件比如鏡頭、光源、軸承等，目前國內產業鏈還達不到，也需要聯合攻關才能取得，這需要花費不少的時間。就如中科院微電子所院士所說，在光刻機方面國內與國外先進相比相差15-20年的距離。即使是國內最先進的上海微電子，也還有相當長的路要走。
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東風高揚
一、目前的全球的光刻機公司有
ASML（荷蘭）
尼康（日本）
佳能（日本）
Diotec（德國）
SUSS（德國）
ABM（美國）
上海微電子裝備有限公司（中國）
二、上海微電子光刻機的代表，是上海微電子裝備有限公司。
三、下面是他的發展歷程
四、目前的主要生產中低端產品銷往國內外
在國際上，荷蘭公司ASML的光刻機技術處於領先，我國的光刻機技術還有很長的一段路要走。
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雖然說在光刻機領域中，上海微電子一直表現比較搶眼，但在市面上出售的光刻機，卻著實有些令人感覺到差異，90nm的光刻機和荷蘭ASML的7nm Euv的區別著實有點過大了。但是，這種“憋屈”，我們現在還得承受著，這是無奈之舉。 
我們得打破《瓦森納協定》的束縛？
其實，我們知道，《瓦森納協定》是成了禁錮我們發展的一大不可忽視的緊箍咒，不僅僅以美國為主的國家，極力的阻止我們在半導體領域的發展，還通過技術管制，讓我們很難在技術中，得以進步。因為，最新的技術確實在美國等西方國家的技術鉗制中！
因此，如果打破不了《瓦森納協定》的束縛，我們在光刻機方面，還是會處於不小的壓力，這才是我們必須要知道的。
光刻機，需要多種技術的集合
什麼是光刻機？光刻機是我們在生產芯片中的重要部分，其實簡單的解釋是，將光罩上的設計好集成電路圖形通過光線的曝光印到光感材料上。因此，鏡頭、分辨率、套刻精度都非常重要。
我們經常說的nm是什麼意思呢？其實，就是光刻機在365納米光源波長下（深紫外光），單次曝光最高線寬分辨力達到多少納米。
我們知道，光刻機的曝光系統常見光源分為:紫外光（UV）、深紫外光（DUV）、極紫外光（EUV）等等，如今能夠在EUV中有所作為的，可能只有ASML了。其實，ASML的成功是集眾家之長，比如德國蔡司提供的鏡頭，美國公司供應的光源，也囊括了海力士、三星、英特爾等多家公司，因為它們是ASML的股東，這就是阿麥斯聰明之處，想優先獲得我的光刻機，就得成為我的股東。
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技術集合的困難，是我國光刻機發展的難點。其實，上海微電子的發展已經很不錯了，我覺得我們可能需要的是，換一種思路，打破國際慣例的技術限制，這就比如武漢光電國家研究中心的甘宗松團隊，成功研發利用二束激光，生產9nm工藝製程的光刻機一樣，未來的限制只會被打破。
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LeoGo科技
水平不高
但不空白
堅持研發
踏實前進
一步一步
後來居上
故，最終趕超一流
＃凌遠長著＃
愛之育之
上微的自力更生的精神要提倡的，中國需要上微精神。
玲玲80468293
對這個我不太懂，聽一些專家說可能不乍嘀，有差距慢慢追敢。別吹牛就行，
