等离子体基础知识：
等离子体是区别于固体、液体和气体的另一种物质聚集态，人们称之为物质存在的第四种状态。它由电离的导电气体组成，其中包括六种典型的粒子，即电子、正离子、负离子、激发态的原子或分子、基态的原子或分子以及光子。
等离子体清洗原理：
等离子通过化学或物理作用对工件表面进行处理，实现分子水平的污染物去除（一般厚度为几个～几十个nm），从而提高工件表面的活性。被清除的污染物可能为有机物、环氧树脂、光刻胶、氧化物、微颗粒污染物等。对应不同的污染物，应采用不同的清洗工艺，根据选择的工艺气体不同，等离子清洗分为化学清洗、物理清洗及物理化学清洗。
等离子体的表面改性：
清洗作用、刻蚀作用、活化作用、涂层
等离子清洗机的工作原理：
在真空状态下，压力越来越小，分子间间距越来越大，分子间力越来越小，利用射频源产生的高压交变电场将氧、氩、氢、四氟化碳等工艺气体震荡成具有高反应活性或高能量的离子，然后与有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质，然后由工作气体流及真空泵将这些挥发性物质清除出去，从而达到表面清洁、活化等目的。如图所示：
CRFPLASMA等离子清洗机原理
等离子清洗机的主要应用领域：
1、精密电子 2、半导体行业 3、汽车制造 4、生物医疗器械 5、包装印刷 6、LED制程 7、新能源行业
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