一般常用的光柵是在玻璃上刻出大量平行刻痕製成，刻痕為不透光部分，兩刻痕之間的光滑部分可以透光，相當於 一狹縫。精製的光柵，在1CM寬度內刻有幾千條乃至上萬條刻痕。
這種利用透射光衍射的光柵稱為透射光柵，還有利用兩刻痕間的反射光的光柵，如在鍍有金屬的表面上刻出許多平行刻痕，兩刻痕的光滑金屬面可以反射光，這種光柵成為反射光柵。由光柵形成的疊柵條紋具有光學放大作用和誤差平均效應，因而能提高測量精度。
光柵傳感器由標尺光柵、指示光柵、光路系統和測量系統四部分組成系統。標尺光柵相對於指示光柵移動時，便 形成大致按正弦規律分佈的明暗相間的疊柵條紋。
這些條紋以光柵的相對運動速度移動，並直接照射到光電元件上，在它們的輸出端得到一串電脈衝，通過放大、整形、辨向和計數系統產生數字信號輸出，直接顯示被測的位移量。
光柵傳感器的結構及原理
光柵傳感器的結構均由光源、主光柵、指示光柵、通光孔、光電元件這幾個主要部分構成。
1、光源：鎢絲燈泡，它有較小的功率，與光電元件組合使用時，轉換效率低，使用壽命短。半導體發光器件，如砷化鎵發光二級管，可以在範圍內工作，所發光的峰值波長為，與硅光敏三極管的峰值波長接近，因此，有很高的轉換效率，也有較快的響應的速度。
2、光柵付：由柵距相等的主光柵和指示光柵組成。主光柵和指示光柵相互重疊，但又不完全重合。兩者柵線間會錯開一個很小的狹角，以便於得到莫爾條紋。一般主光柵是活動的，它可以單獨地移動，也可以隨被測物體而移動，其長度取決於測量光圍。指示光柵相對於光電器件而固定。
3、通光孔：通光孔是發光體與受光體的通路，一般為條形狀，其長度由受光體的排列長度決定，寬度由受光體的大小決定。它是帖在指示光柵上的。
4、受光元件：受光元件是用來感知主光柵在移動時產生的莫爾條紋的移動，從而測量位移動。在選擇光敏元件時，要考慮靈敏度、響應時間、光譜特性、穩定性、體積等因素。
將主光柵與標尺光柵重疊放置，兩者之間保持很小 的間隙，並使兩塊光柵的刻線之間一個微小的夾角θ，如圖所示。
當有光源照射時，由於擋光效應（對刻線密度 ≤50條/mm的光柵）或光的衍射作用（對刻線密度 ≤100條/mm的光柵），與光柵刻線大致垂直的方向上形成明暗相間的條紋。
在兩光柵的刻線重合處，光從縫隙透過，形成亮帶；在兩光柵刻線的錯開的地方，形成暗帶；這些明暗相間的條紋稱為莫爾條紋。
莫爾條紋的間距與柵距W和兩光柵線的夾角θ（單位為rad）之間的關係為
（K稱為放大倍數）。
當指示光柵不動，主光柵的刻線與指示光柵刻線之間始終保持夾角θ，而使主光柵的沿刻線的垂直方向任相對移動時，莫爾條紋將沿光柵刻線方向移動；光柵反向移動，莫爾條紋也反向的移動。
主光柵每移動一個柵距W,莫爾條紋也相應移動一個間距S。因此通過測量莫爾條紋的移動，就能測量光柵移動的大小和方向，這要比直接對光柵進行測量容易得多。
當主光柵沿與刻線垂直方向移動一個柵距W時，莫爾條紋移動一個條紋間距。當兩個光柵刻線夾角θ較小時，由上述公式可知，W一定時，θ愈小。則B愈大，相當於把柵距W放大了1/θ倍。因此，莫爾條紋的放大倍數相當大，可以實現高靈敏度的位移測量。
莫爾條紋是由光柵的許多刻線共同形成的，對刻線誤差具有平均效應，能在很大程度上削除由於刻線誤差所引起的局部和短週期誤差影響，可以達到比光柵本身刻線精度更高的測量精度。因此，計量光柵特別適合於小位移、高精度位移測量。
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