光刻機堪稱現代光學工業之花，其製造難度之大，全世界只有少數幾家公司能夠製造。目前全世界能生產性能穩定的最高精度光刻機設備的只有阿斯麥（ASML），它是全球唯一一家成功開發EUV光刻機（極紫外線光刻機）的公司。
在2018年，中國芯片加工企業中芯國際向全球最大的芯片設備製造商——荷蘭阿斯麥（ASML）訂購了首臺最先進的EUV光刻機，這臺機器的價格高達1.2億美元（約合7億元人民幣）。阿斯麥也被媒體稱為“全球最賺錢的隱形霸主”。
阿斯麥（ASML）的總部位於荷蘭，於1984年成立，原名Advanced Semiconductor Material Lithography Holding N.V.。是從飛利浦獨立出來的一個半導體設備製造商。2001年更名為ASML。公司擁有員工約16500人，其中研發人員超過6000人，研發人員佔比超過36%。目前阿斯麥總市值將近900億元，在全球半導體設備商中排名第一。
阿斯麥作為世界上唯一一個能夠製造EUV光刻機的廠商，並且產量極低。其全部產能早在生產之前就被預訂一空。阿斯麥客戶包括英特爾、三星和臺積電等國際芯片巨頭，EUV光刻機也將確保上述企業保持在芯片領域的領先優勢。這種機器生產的芯片，將使到電子器材的速度更快，容量更大。不過，這種新型機器的問世，將使盈利大幅降低43%左右。
阿斯麥的前景還是相當可觀，2018年第一季度的營業額和盈利大增，大部分只是銷售傳統產品（DUV）的結果，新一代產品（EUV）還沒有正式登上舞臺，僅完成了三臺的製造。不過，在今年將生產至少20臺，2019年的目標是30臺。
最早的光刻機採用接觸式曝光，掩模直接貼在晶圓片上來進行曝光，容易有製程汙染與掩模壽命問題；後來的接近式光刻機，利用氣墊在掩模和硅片之間製造微小空隙，但也影響了成像精度。一直到 80年代的掃描投影曝光，利用光學鏡頭來調整距離與改善成像質量，才能做到微米以下的精度。
要說阿斯麥是半導體行業的王者並不誇張。要知道，在五年前著名的摩爾定律開始失效、光刻技術停滯不前之時，正是阿斯麥的EUV光刻機研發成功，為發展幾乎停滯的半導體行業帶來了生機。2013年阿斯麥的EUV光刻機研發成功，使用的光源是22nm；2017年更先進的EUV光刻機研成功，使用的光源是13nm，使得7nm線寬的製程可以實現。
最近幾年，阿斯麥的營收一直是處於增長態勢。2012至2016年，半導體行業發展緩慢，公司的營收增速也有所放緩，增速大概在10%左右。但到了2017年公司業績的大幅增長主要是受到下游半導體產業復甦，以儲存器為代表的廠商紛紛擴產帶動設備需求，以及全球範圍內掀起晶圓代工廠興建潮帶動設備需求提升所致。
儘管中芯國際目前在製造工藝上仍落後於臺積電等市場領導者兩到三代，但購買EUV光刻機此舉仍突顯了該公司幫助提升中國本土半導體制造技術的雄心壯志，也保證了在最先進的光刻設備方面的供應。
為了追趕這樣的落差，中芯國際不但在2017年底延攬三星電子及臺積電的前高層梁孟松來擔任聯席首席執行長的職務，主要就是希望藉由他過去的經驗，指導中芯國際在發展14納米FinFET製程上的進程，使中芯國際的14納米FinFET製程能在2019年達成量產的目標之外，還在2018年初宣佈，將聯同兩大產業基金共同投資102.4億美元，以加快14納米及以下先進製程研發和量產計劃，最終達成每月量產3.5萬片的目標。
分析人士認為，如果這次採購成功，將有助於推動中國自主研發半導體生產。對於年營業額達到90億歐元的阿斯麥公司來說，來自中國的訂單佔的分量很小，但這顯示了一個趨勢，中國要在芯片市場上扮演一個重要角色，不再依賴外來產品。
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