本月16日，德克薩斯州聯邦陪審團做出一項裁決，三星電子因侵犯韓國技術學院(Korea Advanced Institute of Science and Technology)一項專利技術，需支付高達4億美元的賠償。
當初韓國技術學院就曾提起訴訟，指控三星侵權，但是三星對此不屑一顧，認為這是一項技術潮流。但是隨後英特爾開始向這項技術支付許可費，三星是否侵權問題被在此提上法庭。
這項專利技術是鰭片晶體管技術(FinFET)製程工藝相關的專利技術，隨著芯片產品製程的縮小，鰭片晶體管技術能夠提高芯片性能，同時降低芯片功耗。
三星向陪審團表示，這項技術是其和韓國技術學院共同開發的，否認侵犯了權利，但是這一侵權最終被認定為“故意為之”，這意味著法官可以將三星所需支付的賠償金額增加到陪審團規定的三倍。
這一事件標誌著韓國頂級研究型科學與工程機構——韓國技術學院與三星這家對該國經濟至關重要的公司之間展開的衝突。雙方律師均拒絕對判決發表評論。
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