我們首先來了解一下什麼是光刻機？下面用通俗易懂的話來解釋：
光刻機，一般用在半導體芯片的製造工藝中，就是用光在指定的物品上畫圖案。這個物品的表面事先塗好光刻膠，然後光通過一層事先刻畫好圖案的面板，照射到物品表面，與光刻膠產生化學發生，就會在物品的表面形成指定圖案。
目前中國能生產光刻機的廠商有哪些？
1. 上海微電子裝備有限公司
上海微電成立於2002年3月，鄰近國家集成電路產業基地、國家半導體照明產業基地和國家863信息安全成果產業化（東部）基地等多個國家級基地。該公司自主研發的600系列光刻機，已經實現90nm的量產，目前正在研究65nm的工藝。
上海微電600系列光刻機
2. 合肥芯碩半導體有限公司
合肥芯碩半導體有限公司成立與2006年4月，是國內首家半導體直寫光刻設備製造商。該公司自主研發的ATD4000，已經實現最高200nm的量產。
3. 無錫影速半導體科技有限公司
無錫影速成立與2015年1月，影速公司是由中科院微電子研究所聯合業內資深技術團隊、產業基金共同發起成立的專業微電子裝備高科技企業。影速公司已成功研製用於半導體領域的激光直寫/製版光刻設備、國際首臺雙檯面高速激光直接成像連線設備（LDI），已經實現最高200nm的量產。
LDI 設備
4.先騰光電科技有限公司
先騰光電成立於2013年4月，已經實現最高200nm的量產，在2014國際半導體設備及材料展覽會上，先騰光電亮出了完全自主知識產權的LED光刻機生產技術，震驚四座。
上述就是國產光刻機的現狀，從上面可以看出，國內生產光刻機的公司起步晚，與國際光刻機巨頭ASML公司相差甚遠，ASML已經量產14nm,而且7nm也很快投產，ASML第二代EUV（極紫外光）光刻機 每臺售價超1億美金。
總結：中國目前的光刻機技術還在起步探索階段，雖然取得了一些小成就，但離國外先進技術差距還很大，希望通過目前科研人員的努力，能真正用上性能強，穩定行高的高端國產芯片。
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