中国的高科技芯片制造一直偏于落后水平，原因主要是因为起步晚起点低，外国又对高新技术进行封锁，所以，我国对芯片这个高科技领域的发展也非常的重视。
生产芯片过程中必不可少的一个设备-光刻机，最近中国关于光刻机的话题又闹的沸沸扬扬的。世界上制造光刻机最有名的是ASML，中国也正在采购它家的高级刻录机，但是，ASML向荷兰当局申请出口许可4个月了，但一直没有得到许可，导致ASML无法按时交货。
这台高级极紫外光刻机，也是中国唯一的一台极紫外光刻机，用于5/7/8nm高级芯片的制造，而这台极紫外光刻机真的对中国芯际很重要，甚至对中国芯都很重要。
因为目前中国制造不出高端光刻机，所以它承载的是中国在高端芯片制造方面的希望，所以一听说ASML没能及时交货，被卡在出口许可证上了，自然关注度就来了。
当然，也有人表示，既然这样，那中国就赶紧花高价去研发，赶紧追上来就好了，事实上目前从技术演进的路径来看，中国光刻机水平至少差ASML15年以上。
高级刻录机的生产制造，我们差的不仅仅是技术，在人才和经验的积累上，可能才是最重要。ASML曾经扬言说过：就算我公开图纸，大家也造不出和我一样强的光刻机出来。
光刻机的原理
我们知道光刻机的原理其实就是放大的单反，光刻机就是将光罩上的设计好集成电路图形通过光线的曝光印到光感材料上，形成图形，其中最核心的就是镜头。
其次就是分辨率，光刻机的分辨率是光刻机最重要的技术指标之一，决定了光刻机能够被应用于的工艺节点水平。
最后是套刻精度，也就是指前后两道光刻工序之间彼此图形的对准精度，如果对准的偏差过大，就会直接影响产品的良率。
而光源相对好说，但分辨率、套刻精度就是制约其它厂商前进的脚步，因为分辨率和套刻精度就决定了制造芯片的工艺节点，可以分为0.35um、0.25um、0.18um、90nm、65nm、40nm、28nm、20nm、16/14nm、10nm、7nm等。
而像分辨率、套刻精度这些不仅仅是技术好就能够实现的，而是那些工程师几十年如一日的试验，调校出来的。
也正因为这样所以ASML才能吹牛，说自己就算公开图纸，别人也造不出和它一样的光刻机来，因为零件一样，你也未必能够实现它的精度。
中国光刻机的差距
中科院曾表示：中国光刻机技术至少落后ASML15年。
目前中国只能生产出90纳米的光刻机设备，这也是生产国产光刻机的最高技术水平，比ASML公司差不多有15年的差距。国产光刻机发展缓慢，克服困难自己生产这些零部件，目前生产出来的光刻设备已用到很多的国产企业中。
中科院光电所研发出365纳米波长，曝光分辨率达到22纳米的光刻机，是近紫外的光线，离极紫外还有一点差距。光刻机的波长决定了芯片工艺的大小，波长越短，造价越高。像ASML最先进的EUV极紫外光刻机，波长只有13.5纳米，可以生产10nm、7nm的芯片。
在光刻机的研发道路上，再难我们也得研发，否则就会被人卡脖子，目前这台极紫外光刻机不就是如此么？
科研技术兴趣从小抓起
2017年2月，教育部印发了《义务教育小学科学课程标准》，小学科学课被列为与语文、数学同等重要的“基础性课程”，《科学》课从小学一年级开始上！
但开了这两年，做为一名小学生的家长，我就发现一个问题，学校不知道怎么上科学课。
科学课就基本是死记硬背，这样就违背了科学课的初衷，小学科学课的目标不在于记多少知识点，而是怎么培养科学的兴趣。我最担心的就是孩子对科学产生误解，认为科学就是枯燥的，这样就会影响他上初中后的物理化学的学习。
所以，我经常找一些好的科学书给孩子看。最近，我就发现一套给低年级孩子看的科学书。这套书叫《Science我的大科学》，由国内权威专家，参照小学科学课程大纲要求来编写。一共12册。适合四到十岁的孩子阅读。
里面讲了天文、地理、植物、气象、人文、社会科学等11个领域。非常适合小学阶段的孩子了解科学，培养对科学的兴趣。
每一本都是是由中科院、北师大、各大博物馆权威专家、资深科普作家和国内外知名插画师一起共同完成的。
全书囊括了2000多个知识点，小学阶段的科学课知识全在这套书里了，这套书一共十二本原价298，现在头条团购，只需要99元，一本不到9元还包邮。
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