传统原理光刻机示意图
几个月前大家可能都被一则中科院光电所成功研制出22nm级别光刻机的消息刷屏了。由于光刻机原理的复杂性，大多数人对这件事的观察只停留在22nm上面，对这一项新的技术原理突破还没有意识到重要性。那我们就来看一看这项技术到底有多重要吧！
广波衍射的极限就是传统光刻机的极限
最新原理解释图
该长图里面已经说的很清楚了，由于广波的衍射效应，最新的光刻机最多到达3nm左右就会到达瓶颈，难以再突破。而用等离子体光刻，严格意义上来说不再叫光刻机了，因为它跟光已经没啥关系了。这项技术突破以后，将能够制造1nm,甚至更低的距离。虽然目前还只是22nm阶段，但是以后将会实现跨越式发展，而且还是不久的将来，预计3年左右。
这次的突破可以形象的比作“最强的弓箭和早期射程火力都还不够的枪械”。这样一来，再芯片代工这个领域，一向自持的台积电还能骄傲多久，台湾的谜一样的骄傲还能骗自己多久。
我们之前曾经说过，中国科技企业一路走来很不容易，但由于他们永不放弃，顽强拼搏的精神让中国科技一次又一次打破封锁。如今，中国正值产业转型升级，迈向高端制造的路上，前方路途漫漫，我辈当且歌且行！加油，中国科技人！