众所周知在电子技术领域，芯片一向是我国的一大短板，然而要知道我国并不是不具备制造芯片的技术与生产芯片的能力，只是因为我国国产的芯片相较于国际上当前通用的芯片稍显落后。比如如今在美国芯片领域，5纳米的芯片技术已经相对普及，而我国芯片制造工艺依旧停留在14纳米芯片水平。
究其原因，还是因为我国缺乏芯片制造的一些必要的设备，因此在制造芯片时精度无法达到要求，我国中科院已经成功研发出2纳米的芯片，万事俱备，可是缺了2nm光刻机，这让之后发展有些被阻碍了脚步。由于之前美国对于华为集团的打压，美国不再对华为提供芯片，华为只能够另外寻找芯片生产商，最先获得华为青睐的自然是我国的台积电，台积电已经具备了成熟的7纳米芯片的生产技术，并且在探索向5纳米芯片的制造上发展，然而由于台积电企业的运营涉及部分美国技术，美国在此刻提出拒绝华为使用任何美国技术。
为此台积电与华为的合作被迫中止，华为如今选择了与中芯国际合作，由中芯国际为其提供芯片，然而中芯国际生产的芯片依旧停留在14纳米层面，当前或许能够用于应急，但是还需要进一步的发展。另外我国中科院相关研究团队提出，他们已经研发出了2纳米的芯片，这一成就无疑是走在世界前沿的。然而我国尚不具备5纳米芯片的光刻机，更不用说2纳米的光刻机了，即使我国中科技具备了2纳米芯片的研发技术，依旧无法在实践中大量推广。
要知道作为世界知名企业的荷兰的ASML公司当前都不具备2纳米的光刻机，中科院取得的这一成就却是有些超前了。不过中科院取得的这一成就，对于我国各大企业也是一种激励，我们不能够说中科院当前的研究是不具有意义的，只能说还需要“东风”来助一臂之力。
好了今天就为大家介绍到这里，我们下一期再见！
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