中興事件、華為事件發生後，自主研發芯片就在國內市場中掀起一股新熱潮，只是全球各大廠商研發芯片的背後都離不開荷蘭ASML公司，幾乎全球光刻機市場都被ASML拿下，尤其是高端EUV光刻機市場，數據顯示2019年其出貨量達到26臺 ，創造新紀錄，今年預計會交付35臺EUV光刻機設備，2021年要交付50臺光刻機設備。
一直以來，ASML光刻機都很搶手，畢竟研發芯片對於行業發展，對於國家發展來說都是至關重要的。目前因為美國的原因，ASML光刻機遲遲無法進入中芯國際，這也導致中芯國際在高端芯片的發展道路上的進程延緩。
目前，芯片製程工藝越來越先進，下個月臺積電就要開始進行5nm製程工藝量產，同時臺積電和三星等廠商也在朝著3nm製程工藝芯片的發展方向邁進。ASML也在加快研發對應工藝精度的光刻機產品，近日，外媒報道稱，ASML公司目前正在研發全新一代的EUV光刻機設備，預計2022年開始出貨。
據悉，AMSL現在主要對外出售的光刻機設備是NXE:3400C，採取全新的的模塊化設計，光刻機的維護和維修都十分方便，而且還能夠同時支持7nm和5nm芯片工藝製程。根據現在的信息來看，ASML研發的新一代EUV光刻機設備為EXE:5000系列，依然和卡爾蔡司、IMEC比利時微電子中心等夥伴進行合作，和前代產品相比分辨率能夠提升70%，這也意味著此次ASML研發的EUV光刻機設備對應的是2nm製程工藝或者是突破極限，實現更先進的1nm製程工藝。
不得不說，ASML在光刻機設備方面強大的技術實力確實值得點贊，相比較而言，我國光刻機發展水平確實有些落後，目前國內自主研發的光刻機設備能夠實現大規模商用的芯片製程工藝最高也只能達到90nm，雖然部分廠商也實現了65nm、28nm製程工藝的突破，但是和ASML光刻機相比差距依然很大。對於此，不少網友也在關心著國產光刻機何時才能崛起？
總之，在光刻機領域，我國廠商還需繼續努力，雖然現在面臨著"禁運"等種種困境，讓中國高端芯片產業未來前景不光明，但是自主研發光刻機的道路上沒有什麼捷徑可走，要依靠自己的努力，一步一個腳印，相信總有一天我國光刻機設備精度能夠獲得突破，追趕國際廠商的步伐，讓自主研發的國產芯片也能在世界上立足。不知道對於此事，你怎麼看？
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