金属氧化物的祛除
化学清洗:表面反应以化学反应为主的等离子体清洗，又称PE。
例：O2＋e－→ 2O※ +e－ O※＋有机物→CO2+H2O
从反应式可见，氧等离子体通过化学反应可使非挥发性有机物变成易挥发的H2O和CO2。
例：H2+e-→2H※+e- H※+非挥发性金属氧化物→金属＋H2O
从反应式可见，氢等离子体通过化学反应可以去除金属表面氧化层，清洁金属表面。
物理清洗：表面反应以物理反应为主的等离子体清洗，也叫溅射腐蚀（SPE）。
例：Ar＋e-→Ar++2e- Ar++沾污→挥发性沾污
Ar+在自偏压或外加偏压作用下被加速产生动能，然后轰击被清洗工件表面，一般用于去除氧化物、环氧树脂溢出或是微颗粒污染物，同时进行表面能活化。
真空等离子清洗机
光学仪器
光学镜片的镀膜技术是整个光学系统的一个重要组成部分，良好的镀膜技术能改善镜片的折射率、阿贝数、散射、衍射和化学性能。光学薄膜真空镀膜技术一般采用物理气相沉积（PVD）技术，包括热蒸发、溅射、离子镀等方法。而在镀膜前的光学镜片一般须经过离心力清洗机和超声波清洗机清洗，但若想要得到超洁净的基体表面，则需进一步的采用等离子体清洗，不仅能去除表面经离心力清洗和超声波清洗后的有机残留物，还能对于后道镀膜技术起到积极作用。
光学仪器
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