近日，浙江轄區上市公司 2019 年投資者集體接待日活動舉辦，三美股份董事會秘書稱蝕刻級氫氟酸項目試生產預計在年底左右。
據瞭解，森田新材料是三美股份持股 50%的參股公司，目前在建 2 萬噸 / 年蝕刻級氫氟酸項目，產品可用於集成電路芯片的清洗和腐蝕，是微電子行業製作過程中的關鍵性基礎化工材料之一，目前項目的部分配套工程開始試運行，主體工程進行設備調試，試生產預計在年底左右，項目按原計劃進行。
由於氫氟酸溶解氧化物的能力，它在鋁和鈾的提純中起著重要作用，氫氟酸也用來蝕刻玻璃，可以雕刻圖案、標註刻度和文字。
據瞭解，日本森田化學工業株式會社與浙江武義縣，於 2017 年 11 月 14 日，舉行微電子蝕刻材料項目簽約儀式。2018 年 4 月 3 日，浙江森田新材料有限公司在武義縣新材料產業園舉行入園儀式。一期項目建成後形成 2 萬噸 / 年蝕刻及清洗級氫氟酸，2.2 萬噸 / 年 BOE(氟化銨)的生產能力。
森田化學社長森田康夫在今年 8 月份曾表示，由於強化出口管理“日本企業(面向韓國的高純度氟化氫出口)的份額有可能下降”，森田化學也將在中國工廠啟動高純度氟化氫生產以向韓國供貨。
新聞主體：浙江森田新材料有限公司成立於 2003 年，註冊資金 2700 萬美元，公司坐落在浙江省金華市武義縣青年路胡處微電子新材料產業園區，是一家由日本森田化學工業株式會社和浙江三美化工股份有限公司共同投資成立的中日合資企業。主要生產微電子蝕刻及清洗級材料，應用於半導體及微電子技術加工和太陽能光伏等行業，是集成電路製造的關鍵性基礎材料之一。
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