在芯片代工市場中，臺積電與三星的競爭可謂是龍虎鬥。由於在7納米制程節點上，高通預計會選擇臺積電，三星明顯感受到壓力，已經著手從工藝技術上進行彎道超車。
如今，三星終於公佈了他的 7 納米 LPP 製程已經完成了新斯科技（Synopsys）的物理認證，意味著7納米EUV製程將可以進行全球量產了。
目前，英特爾的10納米制程還沒搞定，距離7納米制程就更遙遠了。臺積電的7納米制程量產比較順利，會有蘋果、海思、高通、NVIDIA、AMD 等客戶陸續流片、量產。
不過，臺積電並不追求EUV極紫外光微影技術，而是堅持延續193nm液浸式光刻技術。臺積電計劃到5納米結點才真正過渡到EUV技術，所以起碼還有到2019年年底才可能部署。
前段時間，臺積電透露聯發科正與其密切合作7納米的12核處理器，表示7納米正在量產認證，接下來兩個季度進行試產，2018年便可實現量產。
格羅方德方面也走臺積電相似的路線，預計2018年量產的7納米DUV製程還是傳統的深紫外光刻技術。對此，號稱頻率可達5GHz的AMD 7納米Zen 2處理器就會使用格羅方德的 7 納米制程技術，這需要等到2020年了。
目前在 EUV 光刻技術競爭激烈下，各家大廠搶 EUV 光刻機也成為重要經營項目之一。根據之前的消息，ASML 的 EUV 光刻機中，臺積電訂購了大約 10 臺，三星訂購了大約 6 臺，英特爾訂購了3臺。
值得高興的是，中芯國際也訂購了1臺EUV光刻機，目前已經成功攻克14納米制程，未來將用於 7 納米制程技術研究上。
隨著製程技術的演進，遇到的挑戰與困難只會多不會少，並且製程節點已進入到10納米以下，快要接觸到物理極限，所以除了線寬微縮外，改變元件結構或是使用新的材料等選項，已是一條不可不走的路。
集成電路被譽為電子信息產業“皇冠上的明珠”，是一個國家電子信息產業的基石。在“中國製造2025”等政策利好，以及光電新技術的推動下，中國集成電路產業備受關注，迎來前所未有的發展機遇。
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