隨著科技的不斷進步，很多高科技產品都依賴一個重要的核心，那就是芯片。小小的芯片上集成了數億的微電路，實現了各種電子設備的正常運作，現在最常用到的手機就非常依賴芯片，現在全球能夠自主研發高端芯片的廠商只有華為、蘋果、三星、高通這四家企業，但是它們都依賴著臺積電，只有臺積電掌握了最先進的代工工藝，目前已經到了5nm的級別。
為什麼只有臺積電能掌握呢？芯片的代工依賴光刻機，而光刻機的產能很低，無法量產，只有臺積電能夠從ASML那裡拿到最頂尖的光刻機，形成了臺積電的壟斷地位。很多人就會想了，我們為什麼不生產國產光刻機呢？光刻機可以說是集成了全人類智慧結晶的產品，而ASML公司在早期打造了自己的技術壁壘，別人是無法復刻它的光刻機的，所以現在國產光刻機進展非常緩慢。
我國很多人想自研光刻機，ASML公司就曾放出“狠話”：“別說是逆向複製了，就算我們把全套圖紙都給你，你們也造不出光刻機來”。ASML這些話聽上去確實很狂妄，但事實就是如此，想要複製幾乎是不可能的，我們只有走出一條新的道路才能打破ASML在光刻機上的壟斷地位。此前，國產光刻機傳來消息，已經能夠通過另一種方式實現10nm工藝的製造，成功突破ASML公司的技術封鎖！
原來，我國利用紫外線光源能夠實現22nm分辨率光刻機，可以用於生產10nm芯片，我們對這項技術具有完全自主知識產權，是由中科院和數家中國高科技企業共同設計完成的，對於國產光刻機的發展有著重要意義！而這個消息對於ASML公司可以說是晴天霹靂，現在是不是想收回之前放出的“狠話”了？
在這之前，國產光刻機最好的是90nm光刻機，距離ASML的5nm光刻機差距有20年，現在我們已經能夠追到10nm光刻機了，相信在中國科學家的努力下，我們也能實現5nm光刻機的自主生產，不用再依賴ASML公司。
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