等離子體基礎知識：

等離子體是區別於固體、液體和氣體的另一種物質聚集態，人們稱之為物質存在的第四種狀態。它由電離的導電氣體組成，其中包括六種典型的粒子，即電子、正離子、負離子、激發態的原子或分子、基態的原子或分子以及光子。

等離子體清洗原理：

等離子通過化學或物理作用對工件表面進行處理，實現分子水平的汙染物去除（一般厚度為幾個～幾十個nm），從而提高工件表面的活性。被清除的汙染物可能為有機物、環氧樹脂、光刻膠、氧化物、微顆粒汙染物等。對應不同的汙染物，應採用不同的清洗工藝，根據選擇的工藝氣體不同，等離子清洗分為化學清洗、物理清洗及物理化學清洗。

等離子體的表面改性：

清洗作用、刻蝕作用、活化作用、塗層

等離子清洗機的工作原理：

在真空狀態下，壓力越來越小，分子間間距越來越大，分子間力越來越小，利用射頻源產生的高壓交變電場將氧、氬、氫、四氟化碳等工藝氣體震盪成具有高反應活性或高能量的離子，然後與有機汙染物及微顆粒汙染物反應或碰撞形成揮發性物質，然後由工作氣體流及真空泵將這些揮發性物質清除出去，從而達到表面清潔、活化等目的。如圖所示：

CRFPLASMA等離子清洗機原理

等離子清洗機的主要應用領域：

1、精密電子 2、半導體行業 3、汽車製造 4、生物醫療器械 5、包裝印刷 6、LED製程 7、新能源行業

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關鍵字: 表面 等離子體 化學